磁控溅射设备原理与应用:全面解析
发布时间:2025-05-12

磁控溅射是一种常见的薄膜沉积技术,广泛应用于材料科学、半导体、光电子以及光学涂层等领域。磁控溅射设备通过高能粒子撞击靶材,使靶材原子或分子逸出,沉积在基板上,形成薄膜。一、磁控溅射原理磁控溅射设备的核心原理是通过磁场增强溅射过程。溅射是指当高能粒子(通常为氩气离子)撞击固体材料表...

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    发布时间:2021-11-08
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    发布时间:2021-10-14
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